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FRITZSCHE, C. R., ROTHEMUND, W. (1972) ChemInform Abstract: UNTERSUCHUNG DER IONENIMPLANTATION UND TEMPEREFFEKTE IN SIO2-SCHICHTEN AUF SILICIUM DURCH OPTISCHE MESSUNGEN. Chemischer Informationsdienst, 3 (50) doi:10.1002/chin.197250046

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Reference TypeJournal (article/letter/editorial)
TitleChemInform Abstract: UNTERSUCHUNG DER IONENIMPLANTATION UND TEMPEREFFEKTE IN SIO2-SCHICHTEN AUF SILICIUM DURCH OPTISCHE MESSUNGEN
JournalChemischer Informationsdienst
AuthorsFRITZSCHE, C. R.Author
ROTHEMUND, W.Author
Year1972 (December 12)Volume3
Issue50
PublisherWiley
DOIdoi:10.1002/chin.197250046Search in ResearchGate
Generate Citation Formats
Mindat Ref. ID14651154Long-form Identifiermindat:1:5:14651154:9
GUID0
Full ReferenceFRITZSCHE, C. R., ROTHEMUND, W. (1972) ChemInform Abstract: UNTERSUCHUNG DER IONENIMPLANTATION UND TEMPEREFFEKTE IN SIO2-SCHICHTEN AUF SILICIUM DURCH OPTISCHE MESSUNGEN. Chemischer Informationsdienst, 3 (50) doi:10.1002/chin.197250046
Plain TextFRITZSCHE, C. R., ROTHEMUND, W. (1972) ChemInform Abstract: UNTERSUCHUNG DER IONENIMPLANTATION UND TEMPEREFFEKTE IN SIO2-SCHICHTEN AUF SILICIUM DURCH OPTISCHE MESSUNGEN. Chemischer Informationsdienst, 3 (50) doi:10.1002/chin.197250046
In(1972, December) Chemischer Informationsdienst Vol. 3 (50) Wiley

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